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多室磁控溅射与离子束联合系统
◆设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。
可广泛应用于大专院校、 科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
◆设备组成
系统主要由溅射真空室、 进样室、 永磁磁控溅射靶（三个靶）、 单基片加热台、 直流电源、
射频电源、 工作气路、 抽气系统、 真空测量、 电控系统及安装机台等部分组成。
◆技术指标
◆技术指标
极限真空度：≤6.8x10-5 Pa (经烘烤除气后)；
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到8.0x10-4 Pa；
停泵关机12小时后真空度：≤4Pa。
